MODÈLE OPTIQUE NON LINÉAIRE ASSOCIÉ AUX MOUVEMENTS MOLÉCULAIRES DE GRANDES AMPLITUDES

M. L. Soussou1, J. Rachidi1, M. Addou1*, A. Villaeys2

1 L.O.P.C.M Laboratoire d'Optoélectronique et de Chimie des Matériaux, Département de physique, Faculté des Sciences, Université Ibn Tofail B.P 133 Kénitra, Morocco

2I.P.C.M.S Groupe d'Optique Nonlinéaire et d'Optoelectronique, 5, rue de l'Université 67084 Strasbourg Cedex, France

* Corresponding author. E-mail : mohammed_addou@yahoo.com

Received : 04 March 2002; revised version accepted : 25 June 2002

Abstract

The aim of the present work is to evaluate the effect of solvent viscosity on the photoisomerization process implying a conformationnel change of molecules in liquids, following a luminous excitation of the system. We propose therefore, using a simple modelization based on a model of two electronic levels to connect nonlinear optical properties of this system. Characteristics of this process such as the displacement of the coordinate normal corresponding to movements of high amplitude of the molecule and the viscosity of the surrounding medium will be described to analyze quantitatively the influence of its susceptibility of order three.

Keywords : Nonlinear optical ; Polarization; Susceptibility; Photoisomerization; Viscosity.

Résumé

L’objectif de ce travail est d'évaluer l’effet de la viscosité du solvant sur le processus de photoisomérisation impliquant un changement conformationnel des molécules dans les liquides, suite à une excitation lumineuse du système. Nous nous proposons donc, par une modélisation simple basée sur un modèle à deux niveaux électroniques de relier les propriétés optiques non linéaires de ce système. Les caractéristiques de ce processus telles que le déplacement de la coordonnée normale correspondant aux mouvements de grandes amplitudes de la molécule et de la viscosité du milieu environnant seront décrites pour analyser quantitativement l’influence de sa susceptibilité d’ordre trois.

Mots clés : Optique non linéaire ; Polarisation ; Susceptibilité ; Photoisomérisation ; Viscosité.

© 2015