Etude par spectroscopie d’électrons Auger

et par diffraction des électrons lents

des dépôts métalliques de cuivre

sur un semi-conducteur lamellaire InSe/Si(111)

B. Abidri1,2*, M. Ghamnia1,2, J.-P. Lacharme2

1 L.S.M.C, Département de Physique, Faculté des Sciences, Université d’Oran es-Sénia, Oran, Algérie

2 Laboratoire de Minéralogie-Cristallographie, Université Pierre et Marie-Curie, Paris, France

* Corresponding author. E-mail: b_abidri@hotmail.com

Received :03 May 2002; revised version accepted : 30 May 2003

Abstract 

The study consists to characterize the InSe lamellar surface submitted to metallic copper interaction under ultra high vacuum. Cu-deposits were controlled by Auger electron spectroscopy (AES), low energy electron diffraction (LEED) and photoemission yield spectroscopy (PYS). At low coverage (0 £ q £ 38 monolayers) Auger signal related to selenium and indium are slightly affected while Cu-Auger emission increases in this coverage-range. Beyond this dose and toward to 180 monolayers the InSe surface reaches the saturation. Cu-Auger signal remains constant while In and Se Auger transitions are usually observable. The associated LEED and PYS techniques indicate that there is two domains concerning the Cu growth on InSe lamellar surface.

Keywords : Lamellar ; Evaporation ; Auger emission ; Diffraction ; Photemission.

Résumé

L’étude consiste à caractériser la surface de InSe lamellaire soumis à l’interaction du cuivre sous UHV. Les dépôts de cuivre sont contrôlés par la spectroscopie d’électrons Auger (AES),  la diffraction des électrons lents (LEED) et la spectroscopie du rendement de photoémission (PYS). Aux faibles recouvrements (0 £ q £ 38 monocouches), les signaux Auger des éléments In, Se sont légèrement affectés alors que le signal Auger du cuivre augmente sensiblement à ces doses. Au-delà du dépôt de 180mc, la surface de InSe atteint la saturation. L’émission Auger du cuivre reste constante alors que les signaux de l’indium et du sélénium sont toujours observables. Les techniques LEED et PYS associées à la spectroscopie Auger indiquent qu’il existe deux domaines de croissance du cuivre sur la surface de InSe lamellaire.

Mots clés : Lamellaire ; Evaporation ; Emission Auger ; Diffraction ; Photoémission.

© 2015